- 法人番号
- 5130001046925
株式会社FLOSFIA
事業内容2025/12/13 更新
酸化ガリウム（Ga2O3）パワーデバイスの研究・製造・販売。
非真空で機能膜・電極・コーティング膜の成膜を施す技術「ミストドライ法」の開発。
酸化ガリウムを用いることで変換損失を抑えた半導体「GaOパワーデバイス」の提供。
ミストドライ法を活用した成膜ソリューションの展開。
酸化ガリウムパワーデバイス開発において、p層を用いたMOSFET（電界効果トランジスタ）でノーマリーオフ特性を有する10A超大電流動作を実現。
株主（過去の株主を含む）
三洋化成工業株式会社 / クオンタムリープ・キャピタル・パートナーズ株式会社 / ダイキン工業株式会社 / 株式会社日本政策投資銀行 / JSR Active Innovation Fund合同会社すべて見る
ステータス
担当者
マイラベル
初回面談日
ソーシングルート
メモ
企業概要
- 企業名
- 株式会社FLOSFIA
- 英語名
- FLOSFIA INC.
- 代表者名
- 四戸 孝、 中澤 達洋
- 住所
- 京都府京都市西京区御陵大原1-29
- 設立
- 2011/03
- 起源
- 大学発
- 大学発（大学名）
- 京都大学
- タイプ
- 未公開企業
- 業種
- 半導体/その他電子部品・製品
- 株主状況
- VCあり, 事業会社あり, 公的機関資金支援あり
調達後評価額
（潜在株を含む）
14,125百万円（推定）
総調達額
最新ラウンド調達額
総調達額の内訳（過去分含む）
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ニュース
資金調達・提携ニュース
資本参加2021/11/30
資本参加2021/10/15
資金調達2021/03/26
資金調達2020/08/18
資金調達2019/07/26
資金調達2019/05/27
資金調達2019/03/29
資金調達2018/01/04
資金調達2017/04/06
資金調達2017/03/02
資金調達2015/10/23
外部ニュース
2025/12/24
2023/01/18
2018/01/03
2018/01/03
2017/04/24
役員（現職）
名前 | 役職 | 職名 | 略歴 | 出所 |
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業績
期 | 年 | 月 | 区分 | 売上（千円） | 営業利益 （千円） | 経常利益（千円） | 当期利益（千円） | 出所 | 備考 |
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提携先
提携日 | 事業提携先 | 種別 | 属性 |
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