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株式会社Cool ALD
法人番号: 2390001015634

株式会社Cool ALD

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法人番号: 2390001015634

株式会社Cool ALD

事業内容2024/03/12 更新
室温原子層堆積法を専門とする研究・開発・製造支援を行う山形大学発スタートアップ。 有機金属材料ガスと酸化性ガスを真空容器に交互に充満させることで、固体基板に酸化物薄膜を均一に形成する技術「室温原子層堆積(Cool ALD)」の実用化に向けた研究・開発。 企業・大学研究機関向けに、室温原子層堆積装置やコントロール用ソフトウェア、制御ユニット、排ガス除害フィルター等を提供。 「室温コートで素材革新をもたらします」等を企業理念に掲げる。

シード
2019/12/17時点
調達後評価額
(潜在株を含む)
185百万円(推測)
2019/12/17時点
従業員数(単体)
従業員数

株主(過去の株主を含む)
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企業概要ニュース株主役員業績提携先
ステータス
担当者
マイラベル
初回面談日
ソーシングルート
メモ

企業概要

2020/10/13更新
情報ソースについて
企業名
株式会社Cool ALD
英語名
Cool ALD Co., Ltd.
代表者名
坂本 仁志
住所
山形県米沢市城南4-3-16
URL
http://coolald.xsrv.jp/
設立
2019/03
起源
大学発, 地方発
大学発(大学名)
国公立大学(その他)
タイプ
未公開企業
業種
産業・エネルギー
株主状況
VC不明
SNS
調達後評価額
(潜在株を含む)
185百万円(推定)
総調達額
最新ラウンド調達額
総調達額の内訳(過去分含む)
成長の推移
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営業利益 (千円)
経常利益(千円)
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提携日
事業提携先
種別
属性
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