- 法人番号
- 2390001015634
株式会社Cool ALD
事業内容2024/03/12 更新
室温原子層堆積法を専門とする研究・開発・製造支援を行う山形大学発スタートアップ。
有機金属材料ガスと酸化性ガスを真空容器に交互に充満させることで、固体基板に酸化物薄膜を均一に形成する技術「室温原子層堆積（Cool ALD）」の実用化に向けた研究・開発。
企業・大学研究機関向けに、室温原子層堆積装置やコントロール用ソフトウェア、制御ユニット、排ガス除害フィルター等を提供。
「室温コートで素材革新をもたらします」等を企業理念に掲げる。
ステータス
担当者
マイラベル
初回面談日
ソーシングルート
メモ
企業概要
- 企業名
- 株式会社Cool ALD
- 英語名
- Cool ALD Co., Ltd.
- 代表者名
- 坂本 仁志
- 住所
- 山形県米沢市城南4-3-16
- 設立
- 2019/03
- 起源
- 大学発, 地方発
- 大学発（大学名）
- 国公立大学(その他)
- タイプ
- 未公開企業
- 業種
- 産業・エネルギー
- 株主状況
- VC不明
- SNS
調達後評価額
（潜在株を含む）
185百万円（推定）
総調達額
最新ラウンド調達額
総調達額の内訳（過去分含む）
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ニュース
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役員（現職）
名前 | 役職 | 職名 | 略歴 | 出所 |
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業績
期 | 年 | 月 | 区分 | 売上（千円） | 営業利益 （千円） | 経常利益（千円） | 当期利益（千円） | 出所 | 備考 |
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提携先
提携日 | 事業提携先 | 種別 | 属性 |
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