最終更新日:2025/04/10 02:11

JSR Active Innovation Fund合同会社

法人番号:7010403021552

JSR Active Innovation Fund合同会社

JSR株式会社の投資子会社。デジタル技術を中心とするスタートアップへの投資予定。 投資活動は、当初30億円規模からスタートして最大100億円までを想定。
投資先
アイリス株式会社
株式会社C-INK
株式会社Gaianixx
株式会社FLOSFIA

企業概要

企業名
JSR Active Innovation Fund合同会社
英語名
JSR Active Innovation Fund LLC.
代表者名
堀 哲朗
住所
東京都港区東新橋1-9-2 汐留住友ビル
設立
2019/10

種別
VC
属性
事業会社系
旧または別名
SNS
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投資情報

株主構成
JSR株式会社
キャピタリスト数
JVCA会員
国内拠点
海外拠点

投資先

スタートアップ

企業名
設立年月日
最新ラウンド
調達日
スピーダ
調達シリーズ
調達後評価額
(千円)
アイリス株式会社
AI搭載インフルエンザ検査機器「nodoca(ノドカ)」を開発。「nodoca」は、咽頭の画像と問診情報等をAIが解析し、インフルエンザに特徴的な所見等を検出する検査医療機器。「みんなで共創できる、ひらかれた医療をつくる。」をミッションに掲げる。
2017/11/14
2025/04/14
シリーズC
20,667,643
(推測)
株式会社C-INK
インクジェット印刷に対応する導電性金属ナノインクの開発。高温焼成不要で基板への細線印刷を実現するインクジェット印刷用導電性ナノインク「DryCure(ドライキュア)J」シリーズの提供。回路基板や電子部品の防水・防湿・マイグレーションを防止するフッ素系絶縁保護コーティング剤「OniCoat(オニコート)」の提供。「情熱、問題解決力、そして確かな技術力は常識を突き破る。」を理念に掲げる。
2012/08/01
2024/02/28
株式会社Gaianixx
多能性中間膜及びエピタキシャル研究開発・製造・販売。多能性中間膜は、基板と半導体膜の格子不整合を駆動力として双晶型マルテンサイト変態を生じ、格子不整合を緩和し上部半導体膜を高品質結晶化させるGaianixx独自の中間膜。エピタキシャル成長は、結晶基板の上に結晶成長を行い、下地の基板の結晶面にそろえて単結晶の薄膜を配列する成長機構。薄い試料を透過させた電子線を検出することで内部構造を観察する走査透過電子顕微鏡(STEM)、PZT/SiC/GaN等の各種単結晶薄膜を提供。「多能性中間膜”で世界をリノベートする」ことをミッションに掲げる。
2021/10/29
2023/12/28
シリーズB
3,547,684
株式会社FLOSFIA
酸化ガリウム(Ga2O3)パワーデバイスの研究・製造・販売。非真空で機能膜・電極・コーティング膜の成膜を施す技術「ミストドライ法」の開発。酸化ガリウムを用いることで変換損失を抑えた半導体「GaOパワーデバイス」の提供。ミストドライ法を活用した成膜ソリューションの展開。P型半導体である酸化イリジウムガリウムの実用化に向けた新規イリジウム系成膜材料を、JSR株式会社と共同で開発。
2011/03/31
2022/01/27
シリーズF
14,124,508
(推測)

シード支援先

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人物

現職

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