企業概要
- 企業名
- 株式会社オキサイド
- 英語名
- Oxide Corporation.
- 代表者名
- 古川 保典、 山本 正幸
- 住所
- 山梨県北杜市武川町牧原1747-1
- 設立
- 2000/10
- 種別
- 事業法人
- 属性
- その他
- 旧または別名
- SNS
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投資先
スタートアップ
企業名 | 設立年月日 | 最新ラウンド 調達日 | 調達後評価額 (千円) | |
---|---|---|---|---|
2020/01/17 | 2023/08/30 | シリーズB | 1,808,647 | |
2021/06/25 | 2021/11/30 | シード | 429,000 |
買収
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提携先
名古屋大学宇治原研究室にて開発された溶液成長法によるSiCウェハの製造。
独自に開発したプロセス・インフォマティクス技術によって8インチ結晶成長を実現することが可能。
「SiCパワー半導体が世界を救う。」をビジョンに掲げる。
スピーダ調達シリーズ
Seed調達後評価額 (潜在株を含む)
429百万円2021/11/29時点設立
2021/06/25従業員数
10人人物
現職
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